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vol.82 マスク投影で精密描画 エキシマレーザー加工技術

vol.82 マスク投影で精密描画 エキシマレーザー加工技術

二九精密機械工業株式会社では、エキシマと超短パルスの複合レーザー加工機、超短パルスレーザー専用加工機、連続発振レーザー長尺加工機など各種レーザー加工機を取り揃えています。また、各種加工技術と組み合わせることで、お客様のニーズに対して最適なレーザー加工部品を提供することができます。今号では、エキシマレーザー加工の描画性を中心に、精密レーザー加工技術を紹介します。

エキシマレーザーとは

193nmという極めて短い波長の紫外線を発振できる気体レーザーの一種です。

半導体製造に使用されるように解像度の高い加工が可能です。

エキシマレーザーの加工方法

マスクパターンを集光レンズで縮小投影し、加工基材にパターン加工を行います。
レーザー光を均一に照射することで、滑らかなパターン加工が可能になります。

エキシマレーザー加工

フェムト秒レーザー加工

エキシマレーザー加工の特徴 (フェムト秒レーザー加工との比較)

レーザー種類 エキシマレーザー フェムト秒レーザー
最レーザー
波長/出力
193nm/10~30W 1030nm/20W
515nm/10W
343nm/ 5W
パルス幅 10~30ns 300fs~10ps
最小加工径 Φ10μm(円形) Φ15μm(楕円形)
最大加工厚み 数μm~100μm
(素材、加工内容による)
~1000μm(素材、加工内容による)
パターン加工方法 パターン照射(1mm×2.4mm) パルスドット描写
パターン描画性 広範囲の一斉照射(マスク使用)による、滑らかなパターン描画性 収束した超短パルスレーザー光による、精緻なドット状のパターン描画性
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