vol.82 マスク投影で精密描画 エキシマレーザー加工技術
vol.82 マスク投影で精密描画 エキシマレーザー加工技術
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二九精密機械工業株式会社では、エキシマと超短パルスの複合レーザー加工機、超短パルスレーザー専用加工機、連続発振レーザー長尺加工機など各種レーザー加工機を取り揃えています。また、各種加工技術と組み合わせることで、お客様のニーズに対して最適なレーザー加工部品を提供することができます。今号では、エキシマレーザー加工の描画性を中心に、精密レーザー加工技術を紹介します。
エキシマレーザーとは
193nmという極めて短い波長の紫外線を発振できる気体レーザーの一種です。
半導体製造に使用されるように解像度の高い加工が可能です。

エキシマレーザーの加工方法
マスクパターンを集光レンズで縮小投影し、加工基材にパターン加工を行います。
レーザー光を均一に照射することで、滑らかなパターン加工が可能になります。


エキシマレーザー加工

フェムト秒レーザー加工
エキシマレーザー加工の特徴 (フェムト秒レーザー加工との比較)
| レーザー種類 | エキシマレーザー | フェムト秒レーザー |
|---|---|---|
| 最レーザー 波長/出力 |
193nm/10~30W | 1030nm/20W 515nm/10W 343nm/ 5W |
| パルス幅 | 10~30ns | 300fs~10ps |
| 最小加工径 | Φ10μm(円形) | Φ15μm(楕円形) |
| 最大加工厚み | 数μm~100μm (素材、加工内容による) |
~1000μm(素材、加工内容による) |
| パターン加工方法 | パターン照射(1mm×2.4mm) | パルスドット描写 |
| パターン描画性 | 広範囲の一斉照射(マスク使用)による、滑らかなパターン描画性 | 収束した超短パルスレーザー光による、精緻なドット状のパターン描画性 |

