半導体関連
半導体関連
更新日:
半導体製造装置におけるガス・液体のリーク防止のため、複合切削加工による部品シール面の気密性向上や、継ぎ目のない配管溶接の技術を追求しています。
メタルシール加工
シール面にバニシング加工(金属表面を押し潰して滑らかに仕上げる)を行い、表面硬度≧Hv330(Cシール)かつ面粗さRa0.04以下にしたことにより、シール面の耐久性と気密性に優れたシール構造を実現した。
また、各種ツールを取り揃えており、多種多様なサイズのシール加工対応も可能です。
半導体関連
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半導体製造装置におけるガス・液体のリーク防止のため、複合切削加工による部品シール面の気密性向上や、継ぎ目のない配管溶接の技術を追求しています。
シール面にバニシング加工(金属表面を押し潰して滑らかに仕上げる)を行い、表面硬度≧Hv330(Cシール)かつ面粗さRa0.04以下にしたことにより、シール面の耐久性と気密性に優れたシール構造を実現した。
また、各種ツールを取り揃えており、多種多様なサイズのシール加工対応も可能です。